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Support de la machine de lithographie duv haut de gamme 7nm exportable: asml vendra 16,2 milliards de yuans en Chine cette année

Date: 2023 / 17 / 03

Support de la machine de lithographie duv haut de gamme 7nm exportable: asml vendra 16,2 milliards de yuans en Chine cette année

 

Cette semaine, asml a noté dans sa dernière déclaration que ces nouvelles mesures de contrôle des exportations se concentrent sur les technologies de fabrication de puces avancées, y compris les équipements de dépôt de pointe et les systèmes de lithographie immergée.

Asml a souligné que les nouvelles mesures de contrôle des exportations ne visent pas tous les systèmes de lithographie par immersion, mais uniquement les systèmes d'impression par immersion dits « de pointe». Jusqu'à présent, la société n'a pas reçu d'informations sur la définition précise de « State - of - the - art», qu'elle interprète comme un « système de lithographie par immersion critique» tel que défini lors de la Conférence Capital Markets Day, à savoir twinscannext: 2000i et le système de lithographie par immersion ultérieur.

La soi - disant machine de lithographie par immersion appartient à la machine de lithographie 193 nm (source de lumière) (divisée en type sec et immergé) qui peut être utilisée pour fabriquer des puces de processus avancés de 16 nm à 7 nm, mais elle est également largement utilisée dans l'industrie de 45 nm et moins. Dans le processus de maturation.

Les informations sur le site officiel de l'asml montrent qu'il existe trois types d'appareils pour les produits de lithographie duv courants de la société: twinscan NXT: 1980di, twinscan NXT: 2000i et twinscan NXT: 2050i, où 2000i et 2050i sont les produits mentionnés dans la Déclaration de la société.

Dans l'introduction de ce twinscan NXT: 1980di sur le site officiel de l'asml, en termes de résolution, il est écrit qu'il est supérieur ou égal à 38 nm (peut prendre en charge jusqu'à environ 7 nm), ce qui fait référence à la résolution d'une seule exposition. En fait, la machine de lithographie peut être exposée plusieurs fois.

En théorie, le NXT: 1980di peut encore atteindre 7 nm, mais les étapes sont plus complexes, plus coûteuses et le rendement peut également être perdu. La plupart des machines de lithographie utilisées dans les usines de plaquettes produisent des puces pour des processus de 14 nm et plus. Réduire la production de procédés inférieurs à 14 nm en raison de faibles rendements, de coûts élevés et de l'absence de compétitivité.

Asml a noté que les systèmes de lithographie par immersion relativement peu avancés sont déjà bien adaptés aux besoins des clients de processus matures et a déclaré que les perspectives à long terme de la société sont basées sur la demande mondiale à long terme et les tendances technologiques plutôt que sur des régions spécifiques. Les attentes. Depuis 2019, le système de lithographie EUV d’asml est limité.

Asml prévoit que les ventes en Chine resteront autour de 2,2 milliards d’euros (environ 16,2 milliards de yuans) en 2023 et accélère l’expansion de ses activités et de ses ventes en Chine.


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